NCE7580_NCEP8816AS导读
今天给大家介绍一款适用于锂电池保护板可替代AO3401等MOS管的国产场效应管：NCE3401。
。VentureCraft是在这方面打头阵的一家公司，其在高分辨率便携式放大器、音乐播放器和头戴耳机放大器(包括广受欢迎的SounDroid Vantam产品线)研发领域处于领先水平。尽管高分辨率技术目前在音频市场上才刚刚起步，但其演变已然展开。
NCE7580_NCEP8816AS
NCE2301E
MOS管的导电沟道，能够在制作过程中构成，也能够通过接通外部电源构成，当栅压等于零时就存在沟道（即在制作时构成的）称为耗尽型，在施加外部电压后才构成沟道的称为增强型。。
。今天Felix Zandman博士写的物理书在很多大学作为基础教材使用，他的自传被译成中文和其他很多种语言。Felix Zandman经历了大屠杀，失去了至亲，在漆黑的地下、在死亡阴霾中生活了17个月，他却并未因此一蹶不振，他在苦难中坚强，以他的个人才华创办了Vishay，在电子元器件行业乃至科技发展史上留下浓重的一笔。2004年 财富杂志选择Vishay作为美国较令人钦佩的公司之一。
MOS管3306产品特征 1、RDS(on)=7mΩ@VGS=10V 2、无铅绿色设备 3、低电阻开关，减少导电损耗 4、高雪崩电流。
MOS管的三个管脚之间有寄生电容存在，这不是我们需要的，而是由于制造工艺限制产生的。
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NCEP068N10K
NCE3075Q NCE3015S NCE3400E NCE3065K NCE3095AK 。
MOSFET管是FET的一种（另一种是JFET），可以被制造成增强型或耗尽型，P沟道或N沟道共4种类型，但实际应用的只有增强型的N沟道MOS管型号和增强型的P沟道MOS管型号，所以通常提到NMOS，或者PMOS指的就是这两种。
N沟道增强型MOS管是把一块低掺杂的P型半导体作为衬底，在衬底上面用分散的方法构成两各重掺杂的N＋区，然后在P型半导体上生成很薄的一层二氧化硅绝缘层，然后在两个重掺杂的N+区上端用光刻的方法刻蚀掉二氧化硅层，暴露N+区，较终在两个N+区的外表以及它们之间的二氧化硅外表用蒸腾或者溅射的方法喷涂一层金属膜，这三块金属膜构成了MOS管的三个电极，分别称为源极(S)、栅极(G)和漏极(D)。
NCE6802 NCE30H29D NCEB301Q NCEB301Q NCEB301G 。
NCE7580_NCEP8816AS
。MOS管NCE3401是一款-30V漏源电压，4.2A电流，SOT-23封装的P沟道MOS管。
NCE25TD135LP NCE1608N NCE18ND11U NCE3134 NCE20ND07U 。
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